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उच्च दक्षता, विशेष रूप से उच्च-श्यानता प्रणालियों के लिए उपयुक्त, फोम निर्माण को रोकता है, फोम का शमन करता है, सूक्ष्म फोम को समाप्त करता है। एपॉक्सी फ्लोरों और प्रिंटिंग इंक के लिए।

उच्च दक्षता, अच्छी संगतता। पेंट सिकुड़न की कम प्रवृत्ति।

High defoaming efficiency even at low dosages. Should be introduced into the system at the dispersion stage.

उत्पादन चरण में प्रभावी, क्रेटरिंग को रोकता है, अच्छी संगतता, पेंटवर्क के सिकुड़ने की कम प्रवृत्ति। चमक को प्रभावित नहीं करता।

अच्छी संगतता, सिस्टम से वायु निष्कासन और डीफोमिंग में उच्च दक्षता। सिस्टम की पारदर्शिता को प्रभावित नहीं करता।

विकिरण-ठीक होने योग्य प्रणालियों के लिए विशेष रूप से विकसित। अच्छी संगतता, उच्च दक्षता। कोटिंग की ओवरकोटिंग क्षमता को प्रभावित नहीं करता।

विकिरण-ठीक होने योग्य प्रणालियों के लिए विशेष रूप से विकसित। अच्छी संगतता, उच्च दक्षता। कोटिंग की ओवरकोटिंग क्षमता को प्रभावित नहीं करता।

जल-आधारित और UV-ठीक होने योग्य प्रणालियों के लिए उपयुक्त। त्वरित लेवलिंग प्रदान करता है, सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता, सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है। pH 6-8 की सीमा में काम करता है।

जल-आधारित और UV-ठीक होने योग्य प्रणालियों के लिए उपयुक्त। त्वरित लेवलिंग प्रदान करता है, सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता, सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है।

जल-आधारित और organosoluble प्रणालियों के लिए उपयुक्त। सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है, निर्माण को रोकता है

जल-आधारित और organosoluble प्रणालियों के लिए उपयुक्त। सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है, क्रेटर निर्माण को रोकता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता।

सिस्टम के सतह तनाव को कम करता है, सब्सट्रेट गीलापन सुनिश्चित करता है, फोम नहीं करता।

जल-आधारित और UV-ठीक होने योग्य प्रणालियों के लिए उपयुक्त। सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है, लेवलिंग प्रदान करता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता, pH 6-8 की सीमा में काम करता है।

जल-आधारित प्रणालियों के लिए उपयुक्त, उत्कृष्ट सब्सट्रेट गीलापन, क्रेटरिंग को रोकता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता।

अच्छी संगतता, कोटिंग की ओवरकोटिंग क्षमता को प्रभावित नहीं करता। स्लिप और लेवलिंग प्रदान करता है।

Good compatibility, ensures alignment and sliding of paintwork. Provides substrate wetting. Particularly suitable for radiation-cured systems.

Good compatibility, ensures alignment and sliding of paintwork. Ensures substrate wetting. Especially suitable for radiation-cured systems.

Good compatibility, reduces the tendency to form craters, reduces surface tension, ensures alignment. Affects the orientation of matting agents.

Reduces the tendency to form craters. Reduces surface tension, affects the orientation of matting agents. Does not stabilize foam, provides leveling.

Does not stabilize foam, reduces surface tension of the system. Provides alignment. Affects the orientation of matting agents.

Effectively prevents cratering, provides leveling, provides anti-adhesive properties. When used in a transparent gloss system, compatibility should be checked.

रेजिन के साथ अच्छी संगतता, कोटिंग की ओवरकोटिंग क्षमता को प्रभावित नहीं करता। फोम को स्थिर नहीं करता, डिफोमर के रूप में काम कर सकता है।

एक्रिलेट कार्यात्मक समूहों वाला बहुलक, UV-ठीक होने योग्य प्रणालियों के लिए उपयुक्त। अच्छी संगतता, लेवलिंग प्रदान करता है और कुछ हद तक डीएरेटर के रूप में काम करता है।

प्रभावी गीलापन और लेवलिंग प्रदान करता है, प्रदूषण प्रतिरोध प्रदान करता है, क्रेटरिंग को रोकता है। विशेष रूप से UV-ठीक होने योग्य प्रणालियों के लिए उपयुक्त।

रेजिन के साथ अच्छी संगतता, कोटिंग की ओवरकोटिंग क्षमता को प्रभावित नहीं करता। फोम को स्थिर नहीं करता, लेवलिंग प्रदान करता है। एपॉक्सी फ्लोरों के लिए उपयुक्त।

सभी organosoluble प्रणालियों के लिए उपयुक्त। -OH समूह युक्त, PU और मेलामाइन प्रणालियों में प्रतिक्रिया कर सकता है। स्लिप और नो-ब्लॉकिंग प्रदान करता है। एंटी-वंडल प्रभाव और सॉफ्ट-टच प्रभाव प्रदान करता है।

यूनिवर्सल एडिटिव, सभी प्रकार की प्रणालियों के लिए उपयुक्त। रेजिन के साथ अच्छी संगतता। लेवलिंग प्रदान करता है

रेजिन के साथ अच्छी संगतता, पेंट चिपकने, नमी प्रतिरोध और नमक धुंध प्रतिरोध में सुधार करता है।