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जल-आधारित प्रणालियों के लिए उत्कृष्ट सब्सट्रेट गीलापन और लेवलिंग प्रदान करता है। पानी में स्थिर, फोम नहीं करता।

जल-आधारित प्रणालियों के लिए उपयुक्त, उत्कृष्ट सब्सट्रेट गीलापन, डिफोमर के रूप में काम करता है, रासायनिक सतह तनाव को प्रभावित करता है।

सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है, सब्सट्रेट गीलापन सुनिश्चित करता है, पेंट ओवरकोटिंग क्षमता को प्रभावित नहीं करता, हाइड्रोलिसिस प्रतिरोधी।

सिस्टम के सतह तनाव को कम करता है, उत्कृष्ट सब्सट्रेट गीलापन सुनिश्चित करता है।

गतिशील सतह तनाव को प्रभावित करता है, उच्च हाइड्रोफिलिसिटी, सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है, क्रेटरिंग को रोकता है, लेवलिंग में सुधार करता है, फोम को स्थिर नहीं करता।

जल-आधारित और UV-ठीक होने योग्य प्रणालियों के लिए उपयुक्त। त्वरित लेवलिंग प्रदान करता है, सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है। व्यापक तापमान सीमा में काम करता है। हाइड्रोलिसिस प्रतिरोधी।

सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम कर सकता है, सब्सट्रेट सफाई प्रदान करता है। फोम को स्थिर नहीं करता।

सिस्टम के सतह तनाव को कम करता है, सब्सट्रेट गीलापन सुनिश्चित करता है, फोम को स्थिर नहीं करता और डिफोमिंग गुणधर्म रखता है।

सिस्टम के सतह तनाव को कम करता है, सब्सट्रेट गीलापन सुनिश्चित करता है, फोम को स्थिर नहीं करता। औद्योगिक जल-आधारित पेंट और वार्निश और UV-ठीक होने योग्य प्रणालियों के लिए उपयोग किया जाता है।

जल-आधारित और UV-ठीक होने योग्य प्रणालियों के लिए उपयुक्त। त्वरित लेवलिंग प्रदान करता है, सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता, सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है। pH 6-8 की सीमा में काम करता है।

जल-आधारित प्रणालियों के लिए उत्कृष्ट सब्सट्रेट गीलापन और लेवलिंग प्रदान करता है। पानी में स्थिर, फोम नहीं करता।

जल-आधारित और UV-ठीक होने योग्य प्रणालियों के लिए उपयुक्त। त्वरित लेवलिंग प्रदान करता है, सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता, सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है।

सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है, सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है, फोम बुझाने में सक्षम, लेवलिंग में सुधार करता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता

जल-आधारित और organosoluble प्रणालियों के लिए उपयुक्त। सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है, निर्माण को रोकता है

जल-आधारित और organosoluble प्रणालियों के लिए उपयुक्त। सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है, क्रेटर निर्माण को रोकता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता।

गतिशील सतह तनाव को प्रभावित करता है, उच्च हाइड्रोफिलिसिटी, क्रेटरिंग को रोकता है, लेवलिंग में सुधार करता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता, फोम को स्थिर नहीं करता।

जल-आधारित और UV-ठीक होने योग्य प्रणालियों के लिए उपयुक्त। सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है, लेवलिंग प्रदान करता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता, pH 6-8 की सीमा में काम करता है।

सिस्टम के सतह तनाव को कम करता है, सब्सट्रेट गीलापन सुनिश्चित करता है, फोम नहीं करता।

जल-आधारित और UV-ठीक होने योग्य प्रणालियों के लिए उपयुक्त। सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है, लेवलिंग प्रदान करता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता, pH 6-8 की सीमा में काम करता है।

गतिशील सतह तनाव को प्रभावित करता है, उच्च हाइड्रोफिलिसिटी, क्रेटरिंग को रोकता है, लेवलिंग में सुधार करता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता, फोम को स्थिर नहीं करता।

गतिशील सतह तनाव को प्रभावित करता है, उच्च हाइड्रोफिलिसिटी, क्रेटरिंग को रोकता है, लेवलिंग में सुधार करता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता, फोम को स्थिर नहीं करता।

जल-आधारित प्रणालियों के लिए उपयुक्त। सब्सट्रेट को गीला करता है, क्रेटरिंग और सिकुड़न को रोकता है, डिफोमर के रूप में काम करता है, सतह तनाव को कम करता है। प्रिंटिंग स्याही के लिए।

बहुकार्यात्मक एडिटिव, उत्कृष्ट सब्सट्रेट गीलापन, डिफोमर के रूप में काम करता है और फोम निर्माण को रोकता है, सतह तनाव को कम करता है, डिस्पर्सेंट के रूप में काम कर सकता है।

सिस्टम के सतह तनाव को कम करता है और उत्कृष्ट सब्सट्रेट गीलापन सुनिश्चित करता है। फोम को स्थिर नहीं करता।

बहुकार्यात्मक एडिटिव, उत्कृष्ट सब्सट्रेट गीलापन, डिफोमर के रूप में काम करता है और फोम निर्माण को रोकता है, सतह तनाव को कम करता है, डिस्पर्सेंट के रूप में काम कर सकता है। प्रिंटिंग स्याही के लिए।

पानी में अच्छी घुलनशीलता, सब्सट्रेट गीलापन सुनिश्चित करता है, उच्च क्लाउड पॉइंट, इसलिए उच्च तापमान ठीक होने वाली प्रणालियों में पारदर्शी रहता है।

गैर-आयनिक गीला करने वाला एजेंट, स्थिर और गतिशील सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है। फोम को स्थिर नहीं करता, पानी की पारगम्यता को कम करता है। प्रिंटिंग स्याही के लिए।

पानी में अच्छी घुलनशीलता, सब्सट्रेट गीलापन सुनिश्चित करता है, उच्च क्लाउड पॉइंट, इसलिए उच्च तापमान ठीक होने वाली प्रणालियों में पारदर्शी रहता है।

जल-आधारित और विलायक प्रणालियों के लिए गीला करने वाला एजेंट। गीला करने और फैलाने वाले एडिटिव, सब्सट्रेट गीला करने वाला एजेंट और प्रवाह एजेंट के रूप में काम करता है।

सिलिकॉन गीला करने वाला एडिटिव, सिस्टम के सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है, फोम को स्थिर नहीं करता।

बहुकार्यात्मक एडिटिव, सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है, डिफोमर के रूप में काम करता है और फोम निर्माण को रोकता है, सतह तनाव को कम करता है, डिस्पर्सेंट के रूप में काम कर सकता है। प्रिंटिंग स्याही के लिए।

गीला करने वाला एजेंट, सब्सट्रेट पर फैलाव और पिगमेंट गीलापन को प्रभावित करता है, कोटिंग के गीले अपघर्षण प्रतिरोध को बढ़ाता है। सिस्टम में सहयोगी अंतःक्रियाओं को बढ़ाता है।

गीला करने वाला एजेंट, सब्सट्रेट पर फैलाव और पिगमेंट गीलापन को प्रभावित करता है, कोटिंग के गीले अपघर्षण प्रतिरोध को बढ़ाता है। सिस्टम में सहयोगी अंतःक्रियाओं को बढ़ाता है।

सिस्टम के सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है और सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है। लेवलिंग में सुधार करता है। हाइड्रोलिसिस प्रतिरोधी।

सिस्टम के सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है और सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है। प्रवाहशीलता और लेवलिंग में सुधार करता है।

सिस्टम के सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है और सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है। फोम को स्थिर नहीं करता,

सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है, सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है, क्रेटरिंग को रोकता है, लेवलिंग में सुधार करता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता, फोम को स्थिर नहीं करता।

जल-आधारित प्रणालियों के लिए उपयुक्त, उत्कृष्ट सब्सट्रेट गीलापन, क्रेटरिंग को रोकता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता।

जल-आधारित प्रणालियों के लिए उपयुक्त, सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है, क्रेटरिंग को रोकता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता। सिस्टम के सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है, सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है। प्रवाहशीलता और लेवलिंग में सुधार करता है।

जल-आधारित प्रणालियों के लिए एनायनिक सब्सट्रेट गीला करने वाला एजेंट, सिस्टम के फैलाव और लेवलिंग को सुनिश्चित करता है।