
ASTRA WA
एनालॉग
BYK-345
जल-आधारित प्रणालियों के लिए उत्कृष्ट सब्सट्रेट गीलापन और लेवलिंग प्रदान करता है। पानी में स्थिर, फोम नहीं करता।
ASTRA Chemical
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ASTRA WA
एनालॉग
BYK-345
जल-आधारित प्रणालियों के लिए उत्कृष्ट सब्सट्रेट गीलापन और लेवलिंग प्रदान करता है। पानी में स्थिर, फोम नहीं करता।

ASTRA WA
एनालॉग
Surfynol-104E
जल-आधारित प्रणालियों के लिए उपयुक्त, उत्कृष्ट सब्सट्रेट गीलापन, डिफोमर के रूप में काम करता है, रासायनिक सतह तनाव को प्रभावित करता है।

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एनालॉग
Tego-270
जल-आधारित और UV-ठीक होने योग्य प्रणालियों के लिए उपयुक्त। त्वरित लेवलिंग प्रदान करता है, सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता, सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है। pH 6-8 की सीमा में काम करता है।

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एनालॉग
Tego-240
जल-आधारित प्रणालियों के लिए उत्कृष्ट सब्सट्रेट गीलापन और लेवलिंग प्रदान करता है। पानी में स्थिर, फोम नहीं करता।

ASTRA WA
एनालॉग
Tego-260
जल-आधारित और UV-ठीक होने योग्य प्रणालियों के लिए उपयुक्त। त्वरित लेवलिंग प्रदान करता है, सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता, सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है।

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एनालॉग
Tego-265
जल-आधारित और organosoluble प्रणालियों के लिए उपयुक्त। सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है, निर्माण को रोकता है

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Tego-280
जल-आधारित और organosoluble प्रणालियों के लिए उपयुक्त। सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है, क्रेटर निर्माण को रोकता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता।

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DO-75,OT-75
गतिशील सतह तनाव को प्रभावित करता है, उच्च हाइड्रोफिलिसिटी, क्रेटरिंग को रोकता है, लेवलिंग में सुधार करता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता, फोम को स्थिर नहीं करता।

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Tego-245(Evonik)
जल-आधारित और UV-ठीक होने योग्य प्रणालियों के लिए उपयुक्त। सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है, लेवलिंग प्रदान करता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता, pH 6-8 की सीमा में काम करता है।

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एनालॉग
Surfynol-604
गतिशील सतह तनाव को प्रभावित करता है, उच्च हाइड्रोफिलिसिटी, क्रेटरिंग को रोकता है, लेवलिंग में सुधार करता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता, फोम को स्थिर नहीं करता।

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एनालॉग
Surfynol-607
गतिशील सतह तनाव को प्रभावित करता है, उच्च हाइड्रोफिलिसिटी, क्रेटरिंग को रोकता है, लेवलिंग में सुधार करता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता, फोम को स्थिर नहीं करता।

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Tego Twin 4000
जल-आधारित प्रणालियों के लिए उपयुक्त। सब्सट्रेट को गीला करता है, क्रेटरिंग और सिकुड़न को रोकता है, डिफोमर के रूप में काम करता है, सतह तनाव को कम करता है। प्रिंटिंग स्याही के लिए।

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Low foaming wetting agent
सिस्टम के सतह तनाव को कम करता है और उत्कृष्ट सब्सट्रेट गीलापन सुनिश्चित करता है। फोम को स्थिर नहीं करता।

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Surfynol AD-01
गैर-आयनिक गीला करने वाला एजेंट, स्थिर और गतिशील सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है। फोम को स्थिर नहीं करता, पानी की पारगम्यता को कम करता है। प्रिंटिंग स्याही के लिए।

ASTRA WA
सिलिकॉन गीला करने वाला एडिटिव, सिस्टम के सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है, फोम को स्थिर नहीं करता।

ASTRA WA
सिस्टम के सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है और सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है। लेवलिंग में सुधार करता है। हाइड्रोलिसिस प्रतिरोधी।

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Dupont FS-3100
सिस्टम के सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है और सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है। प्रवाहशीलता और लेवलिंग में सुधार करता है।

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Low foaming fluoro-surfactant
सिस्टम के सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है और सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है। फोम को स्थिर नहीं करता,

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Surfynol-440
सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है, सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है, क्रेटरिंग को रोकता है, लेवलिंग में सुधार करता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता, फोम को स्थिर नहीं करता।

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एनालॉग
Tego-245
जल-आधारित प्रणालियों के लिए उपयुक्त, उत्कृष्ट सब्सट्रेट गीलापन, क्रेटरिंग को रोकता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता।

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3M FC-4430
जल-आधारित प्रणालियों के लिए उपयुक्त, सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है, क्रेटरिंग को रोकता है, स्लिप को प्रभावित नहीं करता। सिस्टम के सतह तनाव को उल्लेखनीय रूप से कम करता है, सब्सट्रेट को पूरी तरह गीला करता है। प्रवाहशीलता और लेवलिंग में सुधार करता है।

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जल-आधारित प्रणालियों के लिए एनायनिक सब्सट्रेट गीला करने वाला एजेंट, सिस्टम के फैलाव और लेवलिंग को सुनिश्चित करता है।