
ASTRA DF NS
UV-ठीक होने योग्य, एपॉक्सी और पॉलिएस्टर प्रणालियों के लिए विशेष रूप से विकसित। उत्कृष्ट अनुकूलता, फोम निर्माण को रोकता है।
ASTRA Chemical
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ASTRA DF NS
UV-ठीक होने योग्य, एपॉक्सी और पॉलिएस्टर प्रणालियों के लिए विशेष रूप से विकसित। उत्कृष्ट अनुकूलता, फोम निर्माण को रोकता है।

ASTRA DF NS
एनालॉग
AC-2000
उत्कृष्ट अनुकूलता, कम सिकुड़न, मध्यम और उच्च ध्रुवीयता वाली प्रणालियों के लिए उपयुक्त (UV-ठीक होने योग्य प्रणालियां, एपॉक्सी, असंतृप्त पॉलिएस्टर)। पारदर्शिता पर कम प्रभाव पड़ता है।

ASTRA DF NS
एनालॉग
Disparlon P-420
UV-ठीक होने योग्य, एपॉक्सी और पॉलिएस्टर प्रणालियों के लिए विशेष रूप से विकसित। उत्कृष्ट अनुकूलता, फोम निर्माण को रोकता है।

ASTRA DF NS
एनालॉग
VERSION OF ASTRA-1207NS
उत्कृष्ट अनुकूलता, बहुत कम सिकुड़न प्रवृत्ति। विशेष रूप से मध्यम और उच्च ध्रुवीयता वाली प्रणालियों के लिए उपयुक्त (UV-ठीक होने योग्य प्रणालियां)। फिल्म की पारदर्शिता पर कम प्रभाव।

ASTRA DF NS
एनालॉग
Tego-920
विकिरण-ठीक होने योग्य प्रणालियों के लिए विशेष रूप से विकसित। अच्छी संगतता, उच्च दक्षता। कोटिंग की ओवरकोटिंग क्षमता को प्रभावित नहीं करता।

ASTRA DF NS
एनालॉग
Tego-920
विकिरण-ठीक होने योग्य प्रणालियों के लिए विशेष रूप से विकसित। अच्छी संगतता, उच्च दक्षता। कोटिंग की ओवरकोटिंग क्षमता को प्रभावित नहीं करता।

ASTRA DF NS
UV-ठीक होने योग्य प्रणालियों के लिए विशेष रूप से विकसित, उत्कृष्ट अनुकूलता, उच्च डीफोमिंग दक्षता, क्रेटर बनने की कम प्रवृत्ति।

ASTRA DF NS
एनालॉग
AC-326F
UV-ठीक होने योग्य, एपॉक्सी और पॉलिएस्टर प्रणालियों के लिए विशेष रूप से विकसित। उत्कृष्ट अनुकूलता, फोम निर्माण को रोकता है। उच्च श्यानता वाली प्रणालियों के लिए।

ASTRA DF NS
एनालॉग
AC-300
सभी organosoluble प्रणालियों के लिए उपयुक्त, उच्च डीफोमिंग दक्षता। मोटी पेंटवर्क और उच्च श्यानता वाली प्रणालियों के लिए उपयुक्त। एपॉक्सी प्राइमरों, पॉलियूरेथेन, एपॉक्सी प्रणालियों के लिए।